幾種沉積氮化鈦涂層的新技術(shù)

    介紹了幾種沉積氮化鈦涂層的新技術(shù)。利用輔助磁場(chǎng)消除多弧離子鍍沉積氮化鈦膜層中的熔滴，細(xì)化膜層組織；安裝平面大弧源和柱狀弧源的多弧離子鍍膜機(jī)，使多弧離子鍍膜機(jī)結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)化、操作簡(jiǎn)便；采用非平衡磁控濺射源擴(kuò)展了鍍膜室內(nèi)等離子體范圍，有利于磁控濺射沉積氮化鈦超硬涂層。

氮化鈦膜作為超硬涂層用于提高工模具的使用壽命的歷史已經(jīng)有2-余年。目前，能夠進(jìn)行產(chǎn)業(yè)化沉積氮化鈦涂層的沉積技術(shù)主要有三極磁控濺射、活性反應(yīng)離子鍍、空心陰極離子鍍、熱絲弧離子鍍、多弧離子鍍。在這些沉積技術(shù)中以多弧離子鍍的金屬離化率***高、金屬離子流密度***高，***容易獲得氮化鈦等化合物涂層。

由于多弧離子鍍技術(shù)已經(jīng)成為沉積氮化鈦超硬涂層的重要技術(shù)，因此大家對(duì)它的研究、改進(jìn)做了大量工作。

2、消除熔滴、細(xì)化膜層組織
2.1 在靶面附近設(shè)直線型磁場(chǎng)
2.2 在靶面附近設(shè)偏轉(zhuǎn)型磁場(chǎng)

3、簡(jiǎn)化多弧離子鍍膜機(jī)結(jié)構(gòu)
3.1 矩形平面大弧源多弧離子鍍膜機(jī)
3.2 柱狀弧源多弧離子鍍膜機(jī)

4、新型非平衡磁控濺射離子鍍膜機(jī)
4.1 平衡磁控濺射
4.2 非平衡磁控濺射